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低介电常数(low-k)介质在ULSI中的应用前景

低介电常数(low-k)介质在ULSI中的应用前景

ISSN:0372-2112
2000年第28卷第11期
论文
阮刚1,肖夏2,朱兆旻1 RUAN Gang1, XIAO Xia2, ZHU Zhao-min1
1. 复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室,上海 200433:;2. 开姆尼茨技术大学微技术中心,开姆尼茨D09109,德国 1. ASIC and System State Key Lab.,Fudan University,Shanghai 200433,China;2. Center of Microtechnology,Technical University of Chcmnitz,D09107,Germany

本文讨论了ULSI的发展对低介电常数(low-k)介质的需求,介绍了几种有实用价值的low-k介质的研究和发展现况,最后评述了low-k介质在ULSI中应用的前景.

In this Paper,the requirement of low k dielectric for developing ULSI is discussed.The current status of research and development for several promising and worthy low k dielectrics is introduced.Finally,the prospect on the application of low k dielectrics materials is reviewed.

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ISSN:0372-2112
2000年第28卷第11期
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